平面靶材主要是指具有一定厚度的圓形靶材及矩形靶材。平面靶材通過螺紋等方式與濺射設備相連接，在真空條件下濺射成膜層附著于基片上，再通過各種手段（刻蝕）對薄膜加工，以滿足不同需要。
產品名稱：鈦鋁靶材
常規比例：
原子比（at%）：20/80 30/70 33/67 40/60 50/50 60/40 75/25
常規尺寸（mm）
￠100*40/100*32、￠98*45/￠98*40、￠95*45、￠63*40/63*32、
生產工藝：熱等靜壓HIP
靶材純度>99.7%（2N7）
相對密度>99%
注：其他比例及尺寸根據客戶要求定制
真空鍍膜靶材利用率：
靶材形狀 | 靶材利用率 |
平面靶材 | 33%-40% |
旋轉靶材 | 70%-80% |
多弧靶材 | 65%-75% |
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