平面靶材主要是指具有一定厚度的圓形靶材及矩形靶材。平面靶材通過螺紋等方式與濺射設備相連接,在真空條件下濺射成膜層附著于基片上,再通過各種手段(刻蝕)對薄膜加工,以滿足不同需要。
濺射鍍膜原理:
用加速的離子轟擊固體表面,離子和固體表面,原子交換動量,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,該過程即為濺射鍍膜。
產品名稱:鈮濺射靶材
純度:≥99.95%
晶粒度:≤100um
生產工藝:熱等靜壓工藝(HIP)。
應用領域:裝飾行業、建筑玻璃、汽車玻璃、低輻射玻璃、平面顯示器、光學工業、光數據存儲行業等。
|
微信二維碼 |