濺射靶材是指通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜設備在適當工藝條件下濺射沉積在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。濺射靶材廣泛應 用于裝飾、工模具、玻璃、電子器件、半導體、磁記錄、平面顯示、太陽能電池等眾多領域，不同領域需要的靶材各不相同。
產品名稱：異型鈦靶材
材質：純鈦 TA1
規格：20*20*50mm/20*30*50mm
晶粒度：<100um
公差：<±0.1mm
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